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气相沉积炉



1.概述

CVD化学气相沉积炉是用于制备碳碳复合材料,完成CVD气相沉积工艺的重要工艺装备。


2.基本参数

1)设计温度:1250℃/1650℃/1800℃/2200℃

2)常用温度:900~1200℃

3)真空度:<50Pa

4)压升率:空炉冷态6.67Pa/h(或150Pa/24h)

5)加热方式:石墨电阻加热或感应加热

6)气氛介质:氮气、天然气或丙烯、乙炔、氢气

7)控气方式:质量流量计控制

8)炉型:方形、圆形、立式或卧式结构(非标设计)

9)其它介质:炉壳冷却水



气相沉积炉 拷贝.jpg


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